智慧局推「再審查加速審查(AEPRe)」與「延緩實體審查」助企業因應市場變化 靈活專利布局

圖/ 經濟部提供

為協助我國產業因應瞬息萬變的國際市場與競爭壓力，經濟部智慧財產局於今（10）日對外公布並總結智慧局近年全力推動的「專利再審查加速審查（AEPRe）方案」及新修正上路的「發明及設計專利延緩實體審查措施」兩大亮麗成效。智慧局強調，透過「加速」與「延緩」並進的專利雙引擎策略，提供產業界最具彈性的布局工具，兼顧市場先占與研發緩衝，共創友善創新的雙贏局面。

智慧局自113年9月1日起試行「發明專利再審查加速審查（AEPRe）方案」，以加速審查來鼓勵申請人依初審審查結果進行精準修正，同時增加審查效率，達到申請人與智慧局間的雙贏。

根據統計，自113年9月1日至115年9月30日的25個月期間，共收到87件AEPRe申請案，已發出首次通知的84件案件中，平均審查期間僅需23.8天，相較一般再審查案平均需時10.4個月，效率大幅提升，以「醫藥化工」（41%）及「電子電機資訊」（30%）領域的企業最為積極利用，且案件中高達97%順利獲得核准，充分展現AEPRe方案協助高科技產業「搶佔先機、防禦侵權」的關鍵價值。

為因應產業界對於早期研發與觀望市場的緩衝需求，智慧局修正發布《發明及設計專利申請延緩實體審查作業要點》，並於今（115）年1月1日正式施行。新制將發明專利申請延緩實體審查之最長期限由原本的3年大幅放寬至5年，設計專利則由1年放寬至2年。

新制施行後成效顯著，115年截至9月止，發明專利申請延緩審查件數大幅攀升至443件，平均延緩期間更一舉拉長至4.27年，申請延緩審查的前幾大指標企業包含美商英特爾、聯發科、美商福特、荷蘭商ASML及台亞半導體等國內外重量級科技大廠，技術領域多集中於影像通信（H04）及半導體相關（H10）等核心戰略產業，顯示發明專利申請人對於延緩審查的需求強烈，放寬至5年的政策確實滿足了企業能更靈活地施展跨國專利同步布局的策略需求。設計專利申請延緩審查件數亦有153件，平均延緩期間上升至1.33年，顯示2年的延緩額度，對於多數需要市場觀望期與研發緩衝的設計專利申請人而言，已經具足夠的彈性並符合其實際需求。

智慧局表示，智慧局作為國家創新引擎的後盾，持續優化各項審查機制，申請人可透過「AEPRe方案」快速取得專利權，亦可透過「延緩實體審查」，讓企業在面對市場不確定性時，擁有更充裕的時間評估市場狀態及投資機會。未來智慧局將持續精進法規與數位化服務，與產業界攜手打造更具競爭力且友善的專利生態系。